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基礎(chǔ)信息Product information
產(chǎn)品名稱：
高溫退火爐
產(chǎn)品型號：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
所在地：北京市
更新日期：2023-08-14
產(chǎn)品簡介：
目前高溫退火爐加熱大都為管式爐或馬弗爐，原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱，加熱與降溫速度慢，效率低下，也無法實(shí)現(xiàn)溫度的精度高測量，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象，華測儀器開發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)精度高，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置，在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布。
產(chǎn)品特性Product characteristics
| 品牌 | 華測 |
|---|
一、高溫退火爐的設(shè)備優(yōu)勢
高速加熱與冷卻方式
高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時爐體可配置水冷系統(tǒng)，增設(shè)氣體冷卻裝置，可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。
溫度高的精度控制
過紅外鍍金聚焦?fàn)t和溫度控制器的組合使用，可以精que控制樣品的溫度（遠(yuǎn)比普通加溫方式）。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高的精度。
不同環(huán)境下的加熱與冷卻
加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動），操作簡單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。
二、高溫退火爐性能優(yōu)勢
可勻速、階梯（升降溫）、循環(huán)沖擊，真空、氣氛等多種的加熱方式。
采用移相觸發(fā)技術(shù)，*可實(shí)現(xiàn)控制精度波動0.5C以內(nèi)，溫控精度高。
加熱速度快，并且同時提供了材料的多種性測試環(huán)境。
三、應(yīng)用范圍
1.電子材料
半導(dǎo)體用硅化合化的PRA（加熱后急速冷卻）
熱源薄膜形成
激活離子注入后
硅化物的形成
2.陶瓷與無機(jī)材料
陶瓷基板退火爐
玻璃基板退火爐
陶瓷張力、撓曲試驗(yàn)退火爐
3.鋼鐵和金屬材料
薄鋼板加熱過程的數(shù)值模擬
爐焊接模擬
高真空熱處理（1000℃以下）
大氣氣體熔化過程
壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗(yàn)爐
4.復(fù)合材料
耐熱性評價爐
無機(jī)復(fù)合材料熱循環(huán)試驗(yàn)爐
5.其它
高溫拉伸壓縮試驗(yàn)爐
分段分區(qū)控制爐
溫度梯度爐
爐氣分析
超導(dǎo)陶瓷退火爐
